미국의 하버드대학, 중국의 제지안 대학, 일본의 토호쿠 대학의 연구진들은 2단계 사출 공정을 이용하여 50nm의 얇은 직경을 갖는, 직경의 균일함은 물론 표면 거칠기도 원자 수준으로 매우 균일한, free-standing 실리카 선을 만드는데 성공하였다. 이번에 제작된 선은 0.1㏈mm-1이하의 광손실을 갖는 싱글모드 동작이 가능하다. 연구진들은 이 실리카 선이 광통신이나 광센서에 사용되는 광파장 이하의 너비를 갖는 장치들의 구성 요소로 사용될 것으로 기대하고 있다. (ACB)