富士通와 富士通硏究所(川崎市 中原區, 사장 藤崎道雄)은 LSI배선 비어(접속공)에 응용하기 위한 다층 카본나노튜브(MWNT)의 직경 제어로 이어지는 촉매 미립자의 직경제어법을 최초로 개발했다. 레이저 어블레이션과 미분형 정전분급기(DMA)를 조합시킨 실용적인 드라이 공정. 10나노미터 이하의 촉매 미립자를 10% 정도의 표준편차로 매우 균일하게 만들 수 있다. 지름 5나노미터의 촉매 미립자를 사용, 저온기상성장법(CVD)으로 기하평균경 5.0나노미터의 MWNT를 성장시켰다. LSI에 대한 MWNT의 적용에 크게 근접한다. 신기술은 촉매 미립자의 직경을 일치시켜서 MWNT 자체의 직경을 제어한다. 레이저를 니켈판에 조사하여 발생시킨 니켈 미립자를 일단 전기로를 통과시켜 결정화한다. 그 미립자군으로부터 DMA로 목표 직경의 미립자를 선택하여 기판 위에 퇴적하는 시스템. 사이즈에 따라 다른 전기이동도를 이용하여 분급하는 DMA는 촉매미립자용으로 두 회사가 그 사양을 설계했다. 분급한 니켈 밀비자는 7, 5, 3나노미터 등 임의의 사이즈를 10% 정도의 표준편차로 상당히 균일화할 수 있다. 실제로 5.1나노미터의 기하 평균경을 가진 니켈 미립자를 퇴적, 저온성장할 수 있는 열필라멘트 CVD로 MWNT을 성장시켰다. 기판가열온도 550℃로 저온이기 때문에 퇴적한 촉매미립자가 재응집하는 일 없이 사이즈가 유지되기 때문에 성장한 MWNT의 직경제어성은 촉매 사이즈와 잘 일치했다고 한다. (NK)