실리콘 칩 산업에 새로운 활력을 불어넣어 줄지도 모르는 새로운 재조방법이 NASA 에임즈 연구 센터에서 개발되었다. 새로운 제조 방법이란 집적회로에서 구리 배선 대신에 탄소나노튜브를 사용하는 것이다. 새로운 제조 공정은 다음과 같다. 화학 공정을 이용해 실리콘 웨이퍼 표면 위에 수염처럼 생긴 아주 미세한 탄소나노튜브를 성장시킨다. 튜브 사이의 공간을 메우기 위해 실리카 층을 증착하고 표면을 평편하게 폴리싱한다. 탄소나노튜브 배선은 특성의 저하 없이 백만 이상의 전도도를 갖는다. (문의:J. Bluck, tel 605/604-5026) (ACB)