양극 산화법으로 유리 표면에 나노구조 만드는 기술 개발 물질·재료연구기구는 알루미늄 표면 산화막을 부착 내식성을 높일 수 있는 [양극산화법]을 응용하여 유리 표면에 나노구조를 만드는 기술을 개발했다. 이 연구기구의 井上悟 주석연구원 등의 기능 글래스 그룹은 투명전극인 ITO(인디움 주석 산화물)막을 부착한 유리를 사용, 그 위에 알루미늄 막을 스팩터링법으로 물리적으로 증착시켜 그 알루미늄을 유산이나 수산, 인산 등 산에 침적시키면서 유리 기판을 플러스극으로 하여 통전함으로써 알루미늄이 산화되어 직경이 수백~수십㎚ 레벨의 가늘고 긴 구멍이 배열된 구조를 갖는 알루미늄 층으로 변화시킨다. 알루미늄 증착증은 불투명하지만, 알루미늄층 빛의 투과율은 80%의 투명도를 확보할 수 있다. 또한 다른 산으로 에칭함으로서 구멍의 직경을 확장시킬 수 있다. 구멍 안에 기능성 세라믹스 등을 채울 경우에는 졸겔법 등을 사용했다. 티탄을 포함하는 유기화합물인 티탄이소프로폭사이드, 초산, 물, 에탄올을 더해 조정한 졸액에 미세구조를 가진 유리 기판을 담가 기판 속에 티탄화합물을 균일하게 증착시키고, 다시 가열함으로써 산화티탄이 균일하게 들어찬 미세구조를 실현했다. 또 금속에서는 도금법을 사용하여 미세구조의 작성에 성공했다. 구체적으로는 양극산화층을 산으로 ITO전극이 노출될 때까지 에칭한 후, 니켈도금액 속에서 1~10분 정도 전기도금을 실시한다. 구멍 속에는 금속의 니켈이 성장하고, 다시 산에 의한 에칭으로 주위의 알루미늄을 완전히 녹여 직경 30~150㎚, 높이 2.1㎛의 니켈 나노화이버가 즐비하게 늘어서는 구조 작성에 성공했다. (CJ)