연삭가공만으로 내식성 개선되는 금속재료 표면개질기술 개발 이화학연구소 素形材공학연구실의 大森整 주임연구원, 片平和俊 기초과학특별연구원은 慶應義塾대학 이공학부의 小茂鳥潤 조교수의 연구팀과 공동으로 연삭가공만으로 내식성이 현저하게 개선되는 금속재료의 표면개질기술을 개발했다. 종래의 연마법으로 불가능했던 두껍고 비정질한 산화피막을 기재표면에 쉽게 형성한다는 것이 특징. ELID(전해 인프로세스 드레싱)연삭법이라고 불리는 독자의 연삭기술을 이용했다. 다이아몬드의 저립과 철 등의 금속결합제를 소결시킨 지석을 사용. 전압을 가해 금속결합제만을 녹여 목적한 재료를 노출된 다이아몬드로 기계적으로 깎는다. 종래의 연마법에서는 기재표면에 2㎚ 정도의 산화피막이 생기는데, 이번 기술은 10배 두꺼운 20㎚의 피막도 쉽게 생긴다. 연삭액과 재료와의 전위차를 제어하면 피막의 두께를 컨트롤할 수 있다. 전압을 가하는 동안에 연삭액의 주성분인 물이 전기분해로 수산이온이 되어, 가공하고 있는 재료의 표면에 수산이온이 들러붙는다는 원리를 추측하고 있다. 가공된 표면은 내식성이 대폭 개선된 이외에 트라이볼로지 특성과 피로강도 특성도 우수하다. 알루미나를 사용하는 종래의 스테인리스 연마와 이번 기술을 비교했다. 입경 2㎛의 다이아몬드 저립을 사용했을 경우, 표면 거칠기는 종래법과 동등한 평균 5㎚이었지만 내식성은 종래보다 약 2배 높았다. (CJ)