靑山學院대학 이공학부의 重里有三 교수와 旭硝子중앙연구소는 일반적인 직류 스팩터법에 의한 광촉매 산화티탄의 고속박막제조에 성공했다. 통상보다 환원기미인 산화티탄 타깃을 재료로 하고, 직류를 사용할 수 있게된 뒤 매분 50㎚의 성막속도를 달성했다. 기존의 유리코팅 장치를 사용할 수 있기 때문에 건축용, 자동차용 유리의 광촉매 기능화를 추진하는 기술로 기대될 수 있을 것 같다. 스팩터법은 졸겔법 등에 비해 높은 부착력, 높은 내구성의 성막기술. 통상의 산화티탄은 절연체이므로 직류방전의 스팩터가 불가능하다. 따라서 고주파 스팩터나 반응성 직류 스팩터가 이루어지고 있는데, 장치가 고가여서 원가가 비싸지는 문제가 있었다. 이번에는 산소의 공공(空孔)을 가진 타깃을 산화도를 제어한 특수한 핫프레스법으로 제작했다. 비저항은 0.27Ω·㎝으로 극히 작아 직류를 사용할 수 있게 되었다. 또 이 타겟은 일반 산화티탄보다 스팩터되기 쉬워 성막속도는 약 20배 향상되었다. 단순계산으로 원가는 1/5이하가 된다. (CJ)