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질화알루미늄의 구상 나노구조 복합 입자 싼값·대량으로 제조하는 기술 개발
  • 편집부
  • 등록 2005-03-26 01:30:50
  • 수정 2011-01-12 15:18:46
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전력중앙연구소는 아크플라즈마를 이용하여 질화알루미늄(ALN)의 구상 나노구조 복합입자를 제조하는 신기술을 개발했다. 제조 공정을 간략하게 줄여서 싼값에 대량으로 제조할 수 있다는 것이 특징으로, 반도체 분야의 방열재나 소결부재 등에 대한 응용이 기대된다. 프랑스의 리모쥬 대학이나 일본의 분체·중전(重電)메이커와 실용화를 검토하고 있어 올해 안에 프로젝트를 시작한다. 개발한 구상 나노 복합입자는 마이크로미터 레벨의 구상입자 표면에 100나노미터 이하의 나노입자가 부착된 입자. 종래는 마이크로 입자와 나노 입자의 제조, 또한 혼합이라는 세 가지 프로세스가 필요했는데, 새 제조법은 하나의 프로세스에 집약했다. (NK)

 

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