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[ 통권 195호 | ]

웨이퍼 양면에서 가열하는 대면조사식 적외선 진공로 개발
  • 편집부
  • 등록 2004-08-22 00:58:06
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서모理工(東京都 三鷹市, 사장 遠藤智義)은 연구기관용으로 대면조사식 적외선 진공로를 개발했다. 시료 웨이퍼의 상하 양면에서 적외선을 조사하는 연구로 지름 50밀리미터의 비교적 큰 직경의 시료도 매초 100℃로 고속상승하고, 플러스마이너스 0.5~1% 이내로 온도분포를 균일화했다. 지름 50밀리미터의 탄화 실리콘웨이퍼 등의 열처리 등에 최적이라고 한다. 새 장치는 수동으로 개방할 수 있는 진공 챔버 위아래에 적외선 방사부를 설비, 시료 웨이퍼의 양면에서 가열하는 구조이다. 적외선 방사부는 복합형 반사거울에 의해 적외선램프의 점광원을 평행광원으로 해서 시료 웨이퍼에 균일하게 조사한다. 균열기구도 갖추어 직경 50밀리미터의 시료도 온도분포를 이 회사의 평면조사식에 비해 절반의 온도 얼룩으로 절감했다. 양면가열이기 때문에 매초 100℃의 순간가열이 가능하다. 최고가열온도도 1200℃ 이상이기 때문에 각종 열처리에 대응할 수 있다. 새 장치는 東京都의 03년도 신제품개발조성을 받아 개발했다. 지난 4월 하순부터 약 950만 엔에 판매를 시작했다. (NK)

 

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