東京대학 첨단과학기술연구센터의 大崎壽 특임교수, 渡部俊也 교수는 저온·단시간의 고주파 플라즈마에 의한 제막 결정화 프로세스를 개발했다. 통상은 비정질 박막을 200~300℃로 가열, 냉각과 함께 2시간 정도에 걸쳐서 결정화 시키는데, 80℃에서 3분만에 끝낼 수 있어 대면적화도 가능. 유연성 있는 PET 기판에 디스플레이용 투명전도막을 붙이거나 산화티탄 광촉매를 효율적으로 생산하거나 할 수 있다. 20개사 이상에서 사전 문의가 있어 ‘플라즈마 결정화 기술 컨소시엄’을 지난 4월에 발족시켰다. 재료의 성능을 이끌어내기 위해 비정질막을 결정화하는 과정은 일반에게 가열처리가 불가피하다. 기판과 막의 열팽창 계수차로 크랙이 생기기 쉬우므로 가열, 냉각에 1시간씩 걸렸었다. 이번에 東大첨단연의 ‘유럽, 일본 나노테크프로’ 등이 三菱재단의 연구조성으로 실시한 연구는 고주파 플라즈마의 조사 에너지로 박막 내부를 직접, 여기상태로 한다. 결정화가 우수한 재현성이 일어나는 조건을 찾았다. 마이크로파나 레이저에 의한 부분가열법은 있었지만 열을 사용하지 않는 결정화는 처음이다. 열에 약한 플라스틱막이나 미세배선가공용 막에도 응용할 수 있어 생산효율도 대폭 향상된다. 습식·건식 제막법과 실리콘, 유리 등의 기판에도 사용할 수 있다. 이 기술을 기초로 한 응용개발을 화학, 장치, 디스플레이, 광촉매 관련 메이커 등이 희망하고 있다고 한다. 따라서 첨단연과 해외 마케팅 담당 住友商事 등이 간사가 되어 참가기업 각 사의 응용특허를 이용할 수 있는 컨소시엄의 구축을 계획하고 있다. (NK)