티탄산발륨 등의 나노입자 제조, 1만°C 고온 발생시키는 플라즈마 발생장치 이용 日淸製粉그룹의 日淸엔지니어링은 나노레벨로 미세화한 금속이나 산화물 등의 미립자 샘플을 출하하기 시작했다. 출하를 시작한 것은 수 십 나노미터의 티탄산 발륨과 표면에 유리나 산화물을 도포한 100mm 사이즈의 니켈과 구리 등의 미립자. 이들 미립자는 이 회사가 1986년부터 연구를 계속해 온 1만°C 고온을 발생시킬 수 있는 고주파 플라즈마 발생장치를 이용하여 제조한다. 분체원료를 플라즈마 불꽃에 투입, 가스화한 후에 급속하게 냉각함으로써 나노미터 사이즈까지 미세화한다. 종래 기술로는 티탄산발륨이나 구리, 니켈 등은 미세화가 어려운데, 플라즈마 발생장치를 사용하면 미세분체로 만들기 쉽다. 또 제작한 미립자는 구형(球形)으로 분산성, 유동성이 좋고, 불순물도 혼입하지 않기 때문에 가공하기 좋다. 이 회사의 미립자는 재료가 가진 전기특성 등을 살려 건전기에 사용하는 적층 콘덴서 등의 전자부품 재료로서의 용도가 기대된다. (CJ)