질소산화물 제거 필터 개발 高砂熱學工業은 반도체 회로 부식의 원인이 되는 질소산화물을 제거하는 필터를 개발했다. 개발한 [TIOS-AⅢ]는 세라믹스에 탄소염을 구워 굳혀서 제조한다. 공기 속의 수분에 녹아 있는 질소산화물과 중화반응을 일으킴으로써 공기 속의 수용성 질소산화물의 90% 이상을 제거할 수 있다. 질소산화물은 자동차의 폐기가스 등에 포함되어 있다. 수분과 반응하면 초산이나 아연산 등으로 변화하기 때문에, 고밀도화하고 있는 반도체의 회로를 녹여서 쇼트시킬 위험성이 문제가 되고 있다. 질소산화물을 제거하는 필터에는 이온 교환수지를 이용한 제품이 있는데, 세라믹제인 AⅢ는 경합상품에 비해 수명이 40% 정도 길어진다고 한다. 高砂熱學은 1개월당 유지관리 원가를 수지형에 비해 약 50% 삭감할 수 있으리라 보고 있다. (CJ)