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남 등 중금속 이온율 99.9% 제거하는 반도체용 여과장치 개발

납 등 중금속 이온을 99.9% 제거하는 반도체용 여과장치 개발 리퀴드 콘샌드(兵庫縣伊丹市, 사장 岡上公彦)는 납 등 중금속 이온을 99.9% 제거하는 여과장치 「SA필터」를 개발, 住友상사를 통해서 판매…

2003-07-09 20:42:26
기상성장법에 의한 수정박막의 형성법 개발 단시간 낮은 원가로 양산

기상성장법에 의한 수정박막의 형성법 개발 단시간 낮은 원가로 양산 靜岡대학의 高橋直行 교수, 中村高遠 교수와 휴모래버러토리(東京都杉　區, 사장 神力洋一)는 기상성장법에 의한 수정박막의…

2003-07-09 20:41:47
다공질 금속의 연속제작법 개발 철의 플러스화를 가능케,경량화와 강도향상 실현

다공질 금속의 연속제작법 개발 철의 플러스화를 가능케, 경량화와 강도향상 실현 大阪대학 산업과학연구소의 中嶋英雄 교수팀은 다공질(폴러스) 금속의 연속제작법을 개발했다. 응고속도를 제어할…

2003-07-09 20:41:15
집적화 가속도계.자이로에 의한 마이크로 센서 시스템 개발

집적화 가속도계·자이로에 의한 마이크로 센서 시스템 개발 大日전자(大阪府吹田市, 사장 杉本日出夫), 姬路공업대학, 大阪산업진흥기구(大阪市中央區) 연구팀은 집적화 가속도계·자이로(위치·방…

2003-07-09 20:40:22
대기 중에서 안정되고 독성이 없으며 X선에서 가시광으로의 변환효율도 높은 신티레이터 재료 개발

대기 중에서 안정되고 독성이 없으며 X선에서 가시광으로의 변환효율도 높은 신티레이터 재료 개발 大阪市立大 대학원의 中山正昭 교수는 대기 중에서 안정되고 독성이 없으며, X선에서 가시광으로…

2003-07-09 20:34:27
휴대전화와 휴대전보말단용 미세금형 고속.고정밀하게 제작하는 방전.절삭가공의 병용가공 시스템 개발

휴대전화와 휴대전보단말용 미세금형 고속·고정밀하게 제작하는 방전·절삭가공의 병용가공 시스템 개발 橋川製作所(廣島市南區, 사장 橋川榮一)를 중심으로 하는 산학관 연구팀은 휴대전화와 휴…

2003-07-09 20:33:29
원가 40% 감소하는 새로운 금형가공법 개발

원가 40% 감소하는 새로운 금형가공법 개발 금형콘사르(千葉縣鎌ヶ谷市, 사장 左甲斐久)는 종래의 금형공법에 비해 대폭적인 가공시간 단축과 원가절감을 실현할 새로운 가공법을 개발했다. 수치제…

2003-07-09 20:32:38
아몰퍼스 금속의 적층제를 만드는 기술 세계최초 실용화

아몰퍼스 금속의 적층체를 만드는 기술 세계최초 실용화 日本非晶質金屬(東京都墨田區, 사장 小浜彰)은 아몰퍼스 금속의 적층체를 만드는 기술을 세계 최초로 실용화했다. 통상의 아몰퍼스 금속은 …

2003-07-09 20:32:08
미국 벨연구소 공동으로 단분자 스핀밸브 개발,실온에서 30%의 GMR관측

미국 벨연구소 공동으로 단분자 스핀밸브 개발, 실온에서 30%의 GMR관측 미국 벨 연구소, NEC 북미 연구소, 캐나다의 시몬 프레이저 대학은 공동으로 당분자 시핀밸브를 개발했다. 강자성체인 니켈로 비…

2003-07-09 20:31:37
석탄화력 발전소용으로 신종 오염가스배출방지시스템 개발

석탄화력 발전소용으로 신종 오염가스배출방지시스템 개발 미국의 인터내셔널 리서치 앤드 디벨로프먼드사는 석탄화력발전소용으로 신종 오염가스배출 방지 시스템을 개발, 실용화했다. 「퓨어플 …

2003-07-09 20:30:48

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