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재료硏, 수전해 성능 저하 원인, 실시간으로 잡는다
재료硏, 수전해 성능 저하 원인, 실시간으로 잡는다- 2전극 기반 음이온 교환막 수전해 시스템 실시간 정밀 진단 기술 개발- 음이온 교환막 수전해 성능 저하 원인 정밀 규명- 그린수소 상용화 앞당길 핵심 진단 플랫폼 제시한국재료연구원 최승목 박사 연구팀. (자료제공: KIMS)전기화학 임피던스 분광법(EIS) 및 분포형 완화시간 분석(DRT)을 이...
특집
특집
페로브스카이트 셀‧모듈 양산기술 고도화를 통한 상용화 기술 개발 동향_김영윤
Special 차세대 탠덤 태양전지 소재 및 모듈 기술 개발 동향(1)페로브스카이트 셀‧모듈 양산기술 고도화를 통한 상용화 기술 개발 동향김영윤_한국화학연구원 책임연구원1. 머리말현재 기후변화는 지속적으로 진행중이며 심화되는 글로벌 문제로써, 2025년 말 기준으로 지구 평균기온은 1890–1990년 평균 대비 1.19°C 상승하였다[1]. 이러...
기고/칼럼
칼럼
기고
인터뷰
[김대환 교수의 문화재 기행 61]_백자 청화 잉어무늬 항아리
[김대환 교수의 문화재 기행 61]푸른 물결 속의 조선, 잉어 항아리가 들려주는 이야기 백자 청화 잉어무늬 항아리 白磁靑畵鯉魚紋壺글_김대환 동곡뮤지엄 관장·문화유산 평론가사진1. 「백자청화 잉어무늬 항아리」 조선시대(15세기) | 높이33cm, 입지름12cm, 바닥지름17.5cm이 유물은 조선 전기, 15세기 중후반에 제작된 청화백자로 우리나라...
세라미스트광장
세라미스트광장
대한민국 과학기술인상 4월 수상자 심우영 교수 선정
대한민국 과학기술인상 4월 수상자 심우영 교수 선정- 자연계에 존재하지 않는 완전히 새로운 III-V족 반도체 소재 세계 최초 제안- 저전력 인공지능 반도체 및 뉴로모픽 컴퓨팅 기술 발전의 선도자로 주목수상자 심우영 교수. (자료제공: 과기정통부)과학기술정보통신부(부총리 겸 과기정통부 장관 배경훈, 이하 ‘과기정통부’)와 한...
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Altair, NSF 기금을 받다
Altair Nanotechnologies사는 ‘SBOIR Phase I : 차세대 리튬 이온 울트라 축전기를 위한 탄소-코팅된 나노 구조 전극’이라는 제목의 프로젝트로 10만달러의 NSF 기금을 지원받기로 하였다. 공정은 Hosokawa Micron의 나노…
2004-11-21 22:58:36
직경 100나노, 도전성 3배 카본나노파이버 개발
昭和電工은 도전성이 기존 주력제품의 약 3배인 카본나노파이버(극세탄소섬유)의 개발의 전망을 밝혔다. 섬유의 직경은 100나노미터 이상으로, 주력상품 ‘VGCF’의 150나노미터보다 가늘고 형상도 약간 변…
2004-11-21 22:57:54
탄화텅스텐 분말 입경 60나노 실현
어라이드 메터리얼은 초경합금의 재료가 되는 탄화텅스텐(WC) 분말의 입경을 최소 60나노미터로 만드는 기술을 개발했다고 발표했다. WC의 원료인 산화텅스텐을 탄화하는 과정을바꾸어 미립자를 실현했다.…
2004-11-21 22:57:41
가정용 가습기로 나노입자 제작 기술 개발
미국 일리노이 대학의 연구팀은 가정용 가습기를 사용하여 값싸게 나노미터 수준의 입자를 제작하는 기술을 개발했다. 가습기가 내뿜는 초음파로 화학반응을 제어한다. 석유의 정제나 의약품의 합성 등…
2004-11-21 22:57:30
마이크로파 열원으로 나노입자 생성 페라이트 새 합성법 개발
高溫高壓流體기술연구소(高松市, 소장 森吉孝)는 마이크로파를 이용한 각종 자성재료(페라이트)의 합성방법을 확립했다. 마이크로파를 가열원으로 사용하는 마이크로파 화학법으로 크기 10나노미터 정도…
2004-11-21 22:57:21
금 나노 미립자의 흡광성 응용 미세가공 프로세스 확립
미츠호시벨트는 금 나노 미립자의 빛을 흡수하는 성질을 이용한 미세가공 프로세스를 확립했다. 금 나노 미립자를 분산한 폴리머를 이용하여 레이저 가공하는 구조. 빛의 흡수율이 높기 때문에 레이저의 …
2004-11-21 22:57:07
신개발 전자석 사용 정상자장 37.9테슬러 달성
물질·재료연구기구는 신개발 전자석을 사용하여 일정시간 유지할 수 있는 ‘정상자장’으로서는 일본 최고인 37.9테슬러를 달성했다고 발표했다. 전력소비는 종래보다 1메가와트 삭감, 장시간 이용의 전…
2004-11-21 22:56:11
실리사이드 합금 채용, 기생저항을 저감한 금속 소스/드레인 전극 개발
東芝는 미세·고성능 CMOS용으로 현행 실리사이드 기술을 이용, 기생저항이 적은 금속접합(쇼트키 접합)형 소스/드레인 전극기술을 개발했다. 현행 실리사이드 접합계면에 불순물을 편석(偏析)시켜, 실질적…
2004-11-21 22:55:44
급가열·급냉각에 견디는 대형 세라믹 성형법 개발
丸十(愛知縣 瀨戶市, 사장 加藤孝保)는 상온에서부터 800℃까지의 급가열, 그 반대인 급냉각에도 견딜 수 있는 대형 세라믹스의 성형법을 확립했다. 급열급냉에 견딜 수 있는 치과용 그릇의 생산기술을 기…
2004-11-21 22:55:24
원료 대비 제품의 비율 2배로 향상, 전자빔으로 배선 강화
東芝와 소니는 회로선폭 65나노미터의 차세대 반도체에서 원료 대비 제품의 비율을 2배로 높일 수 있는 제조기술을 개발했다. 고밀도 배선이 필요한 차세대 반도체에서는 배선의 박락(剝落)이 불량품의 큰…
2004-11-21 22:55:12
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