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에스엔티 반도체용 SiC 제품 2004년 본격 양산

SiC 연구개발·양산시설구축에 1백억원 투자, LP-CVD공정에 이용되는 튜브·보트 제품 생산 제조단가 일본업체의 2/3수준 가격경쟁력 확보, 국내외시장 본격 공략 계획 반도체ㆍLCD용 세라믹 소재, 부품전문…

2003-12-25 22:11:01
‘産·硏연합 파인세라믹 기술혁신 클럽’ 발족

요업기술원·68개 세라믹부품소재 기업부설연구소 주축, 기술혁신사업 공동 추진 파인세라믹 연구역량 극대화 계기 기대, 세계적 연구클럽으로 발전 지원 계획 요업기술원(원장 정수철)은 차세대 성장…

2003-12-25 22:10:37
스팩터 방식으로 광촉매 미러 양산화, 반도체·전자부품 다층막 프로세스로 응용

芝浦메카트로닉스는 세계에서 최초로 스팩터 방식에 의한 광촉매 미러의 양산화에 성공했다고 발표했다. 당초에는 자동차용 도어미러로 이용할 계획이었지만 반도체, 전자부품 분야의 다층막 프로세스 …

2003-12-25 21:59:04
자성 반도체 나노 입자의 3차원 배열

콜럼비아 대학, IBM 사(社), 뉴 올란드 대학의 연구진들은 두 가지 다른 타입의 입자를 배열해 새로운 3차원 물질을 개발했다고 발표했다. 실험에 사용된 물질들은 서로 다른 특성을 가진 물질을 혼합해야 …

2003-12-25 21:56:33
전자기기 속의 탄소 나노튜브

탄소 나노튜브를 상업적으로 생산하고 사용하는데 가장 큰 어려움을 주는 두 가지 요소는 탄소 나노튜브의 위치와 방향 조절을 하기 힘들다는 것과 원자 구조를 정확히 조절하기 힘들다는 것이었다. 이 …

2003-12-25 21:56:23
내열성 4배 높인 탄화규소 반도체 소자 개발

전력중앙연구소는 내열성을 종래의 4배로 높인 반도체 소자를 개발했다. 변전소나 전철 제어용 반도체 등에 사용한다. 탄화규소는 내열성이 높아 고온조건에서 사용하는 반도체 소자의 재료로 기대되고 …

2003-12-25 21:55:04
클러스터 사이즈를 선별, 조사 이온빔 장치 개발, 초저손상 가공이 가능

姬路공업대학 고도산업과학기술연구소의 豊田紀章 객원조교수 등 연구팀은 클러스터 사이즈(집단의 양)을 선별하여 조사하는 신형 가스틀러스터 이온빔 장치를 개발했다. 클러스터 이온빔은 기판표면에…

2003-12-25 21:54:22
정설(定說)을 뒤집다, 질화인디움 가장 만들기 어려운 질화물 다결정으로 금제대폭(禁制帶幅)을 결정한다?

정설이 옳은지 어떤지는 과학기술분야에서는 항상 고민스런 문제이다. 최근 반도체 결정으로 이 정설을 뒤집어 주목을 끌고 있는 분야가 있다. 질화인디움의 금제대폭(밴드갭) 에너지가 종래 정설의 반 …

2003-12-25 21:54:06
經産省, 올해 모델로 폐기 광파이버 재생 시스템 연구 電線기술센터 등 공동 실시

전선종합기술센터와 에테크(埼玉縣岩槻市, 사장 南眞嗣)등이 공동으로 참여한 폐기 광파이버의 재활용 시스템에 대한 개발연구가 경제산업성 산업기술환경국의 03년도 모델 순환 시스템 사업의 연구테…

2003-12-25 21:53:41
FPD제조용 아닐 장치 개발, 출력 200W로 세계 최고

알백(神奈川縣茅ヶ崎市, 사장 中村久三)은 세계 최고 출력의 고체 그린레이저아닐 장치를 개발했다고 발표했다. 三菱電機가 개발한 세계 최고 출력 200와트(종래는 100와트 이하)의 아닐용 반도체 레이저 …

2003-12-25 21:52:31

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